La Chine franchit un cap dans la lithographie DUV et secoue ASML
Les marchés ont vivement réagi à une avancée technologique chinoise dans l’industrie des semi-conducteurs. Les actions d’ASML ont reculé de manière marquée lundi après des informations indiquant qu’une entreprise de Shanghai soutenue par l’État a lancé une production limitée de machines de lithographie DUV à immersion entièrement développées en Chine. Cette première nationale remet en question la position dominante du groupe néerlandais sur un marché devenu stratégique.
Le titre d’ASML, qui évoluait initialement en hausse de plus de 2 %, a finalement chuté jusqu’à 6,6 % au cours de la séance. Ce mouvement a également pesé sur les fabricants américains d’équipements pour semi-conducteurs, notamment Applied Materials, Lam Research et KLA Corp, illustrant les inquiétudes des investisseurs face à l’évolution du paysage technologique mondial.
Selon les informations publiées par The Information, la startup chinoise a mis en place une chaîne de production de scanners DUV à immersion destinés à la fabrication de puces gravées en 28 nanomètres avec une seule exposition. Grâce aux techniques de multi-patterning, ces équipements pourraient également permettre la production de composants atteignant potentiellement le procédé de 7 nanomètres.
Pour atteindre cet objectif, l’entreprise aurait réuni des équipes d’ingénieurs issues de plusieurs sociétés chinoises spécialisées dans les équipements pour semi-conducteurs. Cette coopération illustre la volonté de Pékin d’accélérer le développement d’une industrie nationale capable de réduire sa dépendance aux fournisseurs étrangers.
La montée en puissance reste toutefois progressive. Les premières estimations évoquent une production d’environ cinq machines cette année, avant une augmentation à une vingtaine d’unités en 2027. Les premiers clients devraient être les principaux fabricants chinois de semi-conducteurs, parmi lesquels SMIC, Hua Hong Semiconductor et ChangXin Memory Technologies. SMIC testerait déjà cette technologie depuis septembre 2025.
Cette évolution représente un enjeu majeur pour ASML. La Chine devrait représenter près de 20 % du chiffre d’affaires du groupe en 2026 selon les estimations de Reuters. Depuis les restrictions imposées par les États-Unis et leurs partenaires occidentaux, ASML ne peut plus exporter vers la Chine ses machines EUV, indispensables aux procédés de gravure les plus avancés. Les équipements DUV constituent ainsi le principal segment encore accessible au marché chinois.
L’apparition d’une alternative nationale, même limitée, pourrait progressivement réduire cette dépendance envers les équipements néerlandais. Si les industriels chinois parviennent à améliorer les performances de leurs systèmes, une partie des commandes domestiques pourrait être réorientée vers des fabricants locaux.
Pour autant, l’écart technologique demeure important. Les premiers systèmes chinois afficheraient encore des performances et une fiabilité inférieures à celles des équipements d’ASML. Des phases de validation et de tests supplémentaires seront nécessaires avant un déploiement industriel à grande échelle. Le leadership technologique du groupe néerlandais reste donc intact à court terme.
Parallèlement, la Chine poursuit également le développement d’une machine de lithographie EUV entièrement nationale. Ce programme demeure toutefois au stade du prototype, ce qui souligne que le chemin reste long avant de concurrencer les technologies les plus avancées disponibles sur le marché mondial.
Cette annonce intervient dans un contexte de tensions géopolitiques persistantes autour des semi-conducteurs. Washington continue de renforcer les restrictions visant les capacités de production chinoises. En avril dernier, des élus américains issus des deux principaux partis ont présenté le MATCH Act, un projet de loi qui interdirait explicitement la vente ainsi que la maintenance des systèmes de lithographie DUV à immersion destinés aux fabricants chinois tels que SMIC, Hua Hong et ChangXin Memory Technologies.
Si cette législation entrait en vigueur, ASML perdrait l’essentiel de ses activités DUV en Chine, indépendamment des capacités industrielles locales. Dans cette perspective, les investissements accélérés de Pékin dans ses propres équipements apparaissent comme une stratégie de sécurisation industrielle face à un environnement commercial de plus en plus contraint.
Au-delà de la réaction boursière immédiate, cette avancée témoigne d’une transformation plus profonde du secteur mondial des semi-conducteurs. La compétition ne repose plus uniquement sur les performances technologiques, mais également sur la souveraineté industrielle, la sécurité des chaînes d’approvisionnement et les rapports de force géopolitiques. Pour ASML comme pour l’ensemble de l’industrie, l’émergence progressive d’une filière chinoise autonome constitue désormais un facteur stratégique qui pourrait remodeler durablement le marché mondial.
